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真空氣氛爐

發布時間： 2024-12-17 瀏覽次數：2267

設備簡介：真空氣氛爐是一種專門設計用于在高真空或特定氣氛環境下進行材料處理、熱處理和化學反應的設備，廣泛應用于冶金、半導體制造、新材料研發、化工等領域。該設備通過精確控制氣氛條件（如真空、惰性氣體、還原性氣體等）和溫度，確保材料在無污染條件下完成高效的處理過程。真空氣氛爐能夠顯著提高材料的質量和性能，適用于對環境要求極高的實驗和生產過程。

產品詳情

應用領域

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應用案例

	設備特點： 1.高純度環境 ?高效真空泵：可選配高效真空泵系統，能夠在短時間內將爐內抽至高真空狀態（通常可達10^^-6 Torr），確保處理過程中無氧無污染。 ?氣氛控制系統：可以處理各種氣氛環境，如真空、惰性氣體（氬氣、氮氣）、還原性氣體（氫氣）等，滿足不同工藝需求。 2.均勻加熱 ?溫控精度：采用先進的PID溫控系統，支持多段程序控制，確保溫度控制精度高，可重復性好。 ?溫度均勻性：通過優化加熱元件布局和溫控系統，確保爐內溫度分布均勻，避免局部過熱或冷點。 3.精準氣氛控制 ?氣氛切換裝置：允許在不同氣氛條件下進行實驗，如從一種氣氛切換到另一種氣氛。 ?氣體流量控制器：用于精確控制氣體流量和比例，確保氣氛環境的穩定性和一致性。 ?壓力調節：部分型號配備壓力調節裝置，確保氣氛環境的壓力保持在設定范圍內。 4.安全設計 ?多重保護措施：內置超溫保護、過流保護、緊急停機按鈕等多重安全保護措施，確保操作安全。 ?泄漏檢測：配備壓力和氣體泄漏檢測裝置，實時監測泄漏情況，確保安全。 ?防爆設計：對于需要使用易燃氣體（如氫氣）的情況，具備防爆設計，確保極端條件下的安全性。 5.操作便捷 ?觸摸屏控制界面：配備觸摸屏控制界面，支持數據記錄和遠程監控，操作簡便。 ?用戶友好：具有友好的用戶界面，易于操作和維護。 ?預設程序：提供多種預設加熱程序和氣氛條件，方便用戶根據具體需求選擇合適的工藝參數。
設備名稱	真空氣氛爐
規格型號	VBF-1200（200200300）
供電電源	三相380V 50HZ
額定功率	45KW
溫區數量	單溫單控
傳感器類型	S型熱電偶φ8*300mm
浮子流量計	20-200L/min
Tmax	1300℃（使用溫度室溫下1200℃）
爐膛材料	304不銹鋼板+鉬板
爐膛尺寸	φ392*410mm
有效工作尺寸	長200高200深300mm
推薦升溫速率	≤10℃/min
真空泵	BSV90 KF40接口（極限真空4Pa）
分子泵	進氣口CF200，出氣口KF40（極限真空5*10^^-6Pa）
整機極限真空	6.7*10^^-3Pa（空爐、冷態）
爐體尺寸	長1835高2040深1625mm
水冷機尺寸	長706高1235深1035mm
控制系統				1、燒結工藝曲線設置：動態顯示設置曲線，設備燒結可預存多條工藝曲線，每條工藝曲線可自由設置； 2、可預約燒結，實現無人值守燒結工藝曲線燒結； 3、實時顯示燒結功率電壓等信息并記錄燒結數據，并可導出實現無紙記錄； 4、具有實現遠程操控，實時觀測設備狀態； 5、溫度校正：主控溫度和試樣溫度的差值，燒結全程進行非線性修正。
溫度精度	±1℃
加熱元件			鉬帶加熱爐膛
壓力測量與監控		采用浮子流量計控制氣體流速，與設備集成為一體，且出廠前已進行漏氣測試工作。
供氣系統		采用機械壓力表，表外殼為氣密型結構，能有效保護內部機件免受環境影響和雜物侵入，同時具有較強的耐腐蝕和耐高溫的能力。
弱腐蝕性氣體預熱器（可選配）		通體采用316L材料，對于各種氣體以及腐蝕性氣體的預加熱處理，滿足特殊的工藝需求，最高溫度達600℃。
凈重	約1215KG
設備使用注意事項	1.設備使用時，絕對壓力表讀數不要大于0.15MPa，以防止壓力過大造成設備損壞； 2.真空下使用時，設備使用溫度不得超過800℃。
服務支持	一年有限保修，提供終身支持（保修范圍內不包括易耗部件，例如處理管和O形圈，請在下面的相關產品處訂購更換件）。